为了改善NAND Flash和DRAM市场供过于求的市况，美光决定减少Wafer投片量以及减少资本支出来平衡市场供需。三星则招募 人才，专注于先进DRAM技术，提高市场竞争力，同时三星大批量人事异动，专找人工智能、大数据和机器人领域的 人才，以加强其未来的新业务。
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C2F是一个单层FAB厂房，建筑面积58000平方米，建筑规模与现有的C2 FAB厂房相似。SK海力士已完成了部分C2F洁净室的建设，安装设备后将开始生产DRAM，也会根据市场情况灵活确定额外洁净室建设和设备安装的时间。
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SK海力士于2004年与中国江苏省无锡市签订合同，在当地建立制造工厂，并于2006年完成生产线（C2），开始生产DRAM。C2是公司 300mm FAB工厂，在SK海力士DRAM业务发展中发挥了重要作用。但随着技术的扩展，工艺技术难度增加，设备变得越来越大，导致洁净室空间不足。因此，SK海力士于2017年6月至2019年4月投资建厂，以确保增加生产空间。
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